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美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀
產品名稱: 美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀
產品型號: He-Ne 雙頻
產品特點: 美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀采用塞曼效應穩頻雙頻 He-Ne 激光,最小分辨率 0.3nm,適配半導體設備與超精密機床,是高精度位移測量的核心設備。
美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀 的詳細介紹
美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀美國 EXCEL PRECISION 1001 激光頭干涉儀,依托美國 EXCEL PRECISION 的雙頻 He-Ne 激光技術,是專為半導體設備、超精密機床開發的高精度激光干涉儀測量系統,憑借塞曼效應穩頻原理,實現了 0.3 納米級的位移測量分辨率,成為晶圓步進曝光機、精密測量儀、超精密工作機等設備的核心定位組件。
設備采用兩倍頻率的氦氖激光系統,通過對激光管施加縱向磁場,利用塞曼效應使氖原子能級分裂為兩個等間隔頻率,頻率差與磁場強度成比例偏移,從而實現高頻率穩定性與測量再現性。高分頻頻率設計讓測量速度可達 1.0m/sec(取決于分辨率),滿足高速運動平臺的實時位移反饋需求。系統支持最多 6 軸同步測量,可搭配 6 個干涉儀與 6 個探測器,實現多軸聯動設備的同步校正與定位。
1100B 六要素校正系統可一次性檢測并數據化最大 5 個要素的桌面間隙,廣泛應用于機床的精度管理,幫助用戶快速識別設備誤差、優化運動精度。設備整體采用緊湊化設計,激光頭本體尺寸僅 355×132×116mm,可輕松集成到各類精密設備中;光學產品相互兼容,支持與干涉儀及相關檢測、光學硬件的配套使用,適配晶圓 / FPD 步進曝光機、電子束設備、IC 檢查產品、后端步進曝光機等多種場景。
該系統已在全球擁有超過 5000 臺的應用實績,是半導體制造、超精密加工領域的測量設備,同時支持根據用戶需求定制非標系統,為不同行業的高精度位移測量與設備校正提供可靠解決方案。